• Forum
  • Aktiemarkeder
    • MarkederRealtidskurser, indekser og markedsudvikling
    • BørskalenderKommende resultater, noteringer og virksomhedsbegivenheder
    • UdbyttekalenderKommende og tidligere udbytter
  • Selskaber
    • SelskaberGennemse og filtrer den fulde liste over børsnoterede selskaber
    • OpdagInspiration til din næste investering
    • BørsnoteringerNye noteringer og kommende børsintroduktioner
    • Invitationer til generalforsamlingerDatoer for generalforsamlinger og aktionærinformation
  • Aktieanalyse
    • ResearchEkspertaktieanalyse og anbefalinger
    • ArtiklerNyheder, indsigter og markedskommentarer
    • inderesTVVideocenter for aktieanalyse, forskning og ekspertkommentarer
    • TransskriptionerFuldstændige udskrifter af resultatopkald og investormøder
    • AktieoversigtSammenlign nøgletal og udvikling på tværs af flere aktier
Find os på de sociale medier
  • Inderes Forum
  • Youtube
  • Facebook
  • X (Twitter)
Tag kontakt
  • info@hcandersencapital.dk
  • Bredgade 23B, 2. sal
    1260 København K
Inderes
  • Om os
  • Vores team
  • Karriere
  • Inderes som en investering
  • Tjenester for børsnoterede virksomheder
Vores platform
  • FAQ
  • Servicevilkår
  • Privatlivspolitik
  • Disclaimer

Inderes’ ansvarsfraskrivelse kan findes her. Detaljeret information om hver aktie, der aktivt overvåges af Inderes og HC Andersen Capital, er tilgængelig på de virksomhedsspecifikke sider på Inderes' hjemmeside. © Inderes Oyj. All rights reserved.

Pressemeddelelse

Dignitana AB: Dignitana expands intellectual property with new patent in Korea

Dignitana

Dignitana has received a Notice of Allowance from the Korean Intellectual Property Office for a patent titled "Scalp Cooling Apparatus, Method and System."

Patent Application No. 10-2021-7017704 was submitted in 2021 and approved 31 December 2024.  This filing expands on the previous Korean patent obtained by Dignitana in 2014 which was based on technology in Dignitana's legacy C3 DigniCap scalp cooling system.

"Dignitana's IP portfolio provides a broad protection for our scalp cooling technology. We have an active IP strategy and have consistently worked to acquire rights in priority markets. This new patent in Korea brings additional value to the company and provides a solid foundation for strategic development in Asia," said Fredrik Jonsson, CEO of Dignitana.